收藏！2023年全球CMP拋光液產(chǎn)業(yè)技術(shù)競爭格局(附區(qū)域申請分布、申請人排名、專利申請集中度等)

行業(yè)主要上市公司：安集科技(688019)、上海新陽(300236)、鼎龍股份(300054)、萬華化學(xué)(600309)等

本文核心數(shù)據(jù)：技術(shù)來源國、專利申請人排名、專利申請新進(jìn)入者、市場最高專利價值

全文統(tǒng)計口徑說明：1)搜索關(guān)鍵詞：CMP拋光液及與之相近似或相關(guān)關(guān)鍵詞;2)搜索范圍：標(biāo)題、摘要和權(quán)利說明;3)篩選條件：簡單同族申請去重、法律狀態(tài)為實(shí)質(zhì)審查、授權(quán)、PCT進(jìn)入指定國(指定期)，簡單同族申請去重是按照受理局進(jìn)行統(tǒng)計。4)統(tǒng)計截至日期：2023年4月17日。5)若有特殊統(tǒng)計口徑會在圖表下方備注。

1、全球CMP拋光液技術(shù)區(qū)域競爭格局

(1)技術(shù)來源國分布：中國大陸占比最高

目前，全球CMP拋光液第一大技術(shù)來源國為中國，中國大陸CMP拋光液專利申請量占全球CMP拋光液專利總申請量的33%以上;其次是美國，美國CMP拋光液專利申請量占全球CMP拋光液專利總申請量的27%左右。

統(tǒng)計說明：①按每件申請顯示一個公開文本的去重規(guī)則進(jìn)行統(tǒng)計，并選擇公開日最新的文本計算。②按照專利優(yōu)先權(quán)國家進(jìn)行統(tǒng)計，若無優(yōu)先權(quán)，則按照受理局國家計算。如果有多個優(yōu)先權(quán)國家，則按照最早優(yōu)先權(quán)國家計算。

(2)專利申請趨勢：中國和美國為主要來源國，中國專利數(shù)量持續(xù)領(lǐng)先

從趨勢上看，2004-2021年，中國為主要CMP拋光液專利來源國家，多年數(shù)量保持領(lǐng)先，且數(shù)量差距在不斷擴(kuò)大。來自于美國的專利數(shù)量僅次于中國。2022年來自于中國的CMP拋光液專利數(shù)量達(dá)到76項(xiàng)。

統(tǒng)計說明：①按每件申請顯示一個公開文本的去重規(guī)則進(jìn)行統(tǒng)計，并選擇公開日最新的文本計算。②按照專利優(yōu)先權(quán)國家進(jìn)行統(tǒng)計，若無優(yōu)先權(quán)，則按照受理局國家計算。如果有多個優(yōu)先權(quán)國家，則按照最早優(yōu)先權(quán)國家計算。

(3)中國區(qū)域?qū)＠暾埛植迹荷虾＠麛?shù)量持續(xù)領(lǐng)先

中國方面，上海為中國當(dāng)前申請CMP拋光液專利數(shù)量最多的省份，當(dāng)前累計CMP拋光液專利申請數(shù)量達(dá)221項(xiàng)。廣東申請CMP拋光液專利數(shù)量超過30項(xiàng)。中國當(dāng)前申請省(市、自治區(qū))CMP拋光液專利數(shù)量排名前十的省份還有山東、江蘇、遼寧、天津、北京、浙江、臺灣和四川。

統(tǒng)計口徑說明：按照專利申請人提交的地址統(tǒng)計。

趨勢方面，2004年開始上海CMP拋光液專利申請數(shù)量保持著全國第一的位置，2021年被廣東、山東等省市趕超。整體來看，上海的數(shù)量優(yōu)勢比較明顯，以廣東為代表的地區(qū)也在不斷發(fā)展。

統(tǒng)計口徑說明：按照專利申請人提交的地址統(tǒng)計。

2、全球CMP拋光液技術(shù)申請人競爭格局

(1)專利申請人集中度：市場集中度較高，CR10波動變化

2004-2023年4月，全球CMP拋光液專利申請人CR10呈現(xiàn)波動變化的趨勢，由2004年的81.25%波動增長至2023年4月的100.00%。整體來看，全球CMP拋光液專利申請人集中度較高。

統(tǒng)計口徑說明：市場集中度——CR10為申請總量排名前10位的申請人的專利申請量占該領(lǐng)域?qū)＠暾埧偭康谋壤?其中，有聯(lián)合申請時，專利數(shù)量不會被去重計算)。

(2)TOP10專利申請人

——總量及趨勢：安集科技奪得桂冠，領(lǐng)先優(yōu)勢較為明顯

全球CMP拋光液產(chǎn)業(yè)專利申請數(shù)量TOP10申請人分別是安集微電子(上海)有限公司、安集微電子科技(上海)股份有限公司、RESONAC CORP、羅門哈斯電子材料CMP控股公司、弗薩姆材料美國有限責(zé)任公司、秀博瑞殷股份有限公司、臺灣積體電路制造股份有限公司、大連理工大學(xué)、上海新安納電子科技有限公司和凱斯科技股份有限公司。

其中，安集微電子(上海)有限公司和安集微電子科技(上海)股份有限公司CMP拋光液專利申請數(shù)量分別為117項(xiàng)和86項(xiàng)。

注：未剔除聯(lián)合申請數(shù)量。

趨勢方面，2004-2023年4月各個公司年申請量整體呈現(xiàn)波動態(tài)勢。整體來看，安集科技于2007年建立起數(shù)量優(yōu)勢，并保持領(lǐng)先。RESONAC CORP 2015年的CMP拋光液相關(guān)專利申請數(shù)量超過安集科技并建立起自己的優(yōu)勢。

——專利技術(shù)分布：C09G1專利申請數(shù)量較多

目前，全球CMP拋光液產(chǎn)業(yè)專利申請數(shù)量TOP10申請人技術(shù)主要布局在C09G1專利，其中全球CMP拋光液專利申請量第一的安集微電子(上海)有限公司該專利申請量達(dá)到114項(xiàng)。

(3)市場價值最高TOP10專利的申請人：以國外專利為主

全球CMP拋光液市場價值最高TOP10專利中，以國外專利為主，價值均在400以上?？梢婋m然中國專利數(shù)量占比較大，但價值層面，國外專利更勝一籌。

注：最有價值的專利是指該技術(shù)領(lǐng)域內(nèi)具有最高專利價值的簡單同族。當(dāng)前統(tǒng)計口徑按每組簡單同族一個專利代表的去重規(guī)則進(jìn)行統(tǒng)計，并選擇同族中有專利價值的任意一件專利進(jìn)行顯示。

(4)專利申請新進(jìn)入者：十大新進(jìn)入者

近五年中國企業(yè)在CMP拋光液產(chǎn)業(yè)表現(xiàn)較為活躍，全球十大新進(jìn)入者中以中國企業(yè)為主。其中主要包括萬華化學(xué)等企業(yè)。

新進(jìn)入者定義：僅在過去5年內(nèi)才提交專利申請的申請人。

更多本行業(yè)研究分析詳見前瞻產(chǎn)業(yè)研究院《中國半導(dǎo)體CMP材料（拋光液/墊）行業(yè)發(fā)展前景預(yù)測與投資戰(zhàn)略規(guī)劃分析報告》。

同時前瞻產(chǎn)業(yè)研究院還提供產(chǎn)業(yè)大數(shù)據(jù)、產(chǎn)業(yè)研究報告、產(chǎn)業(yè)規(guī)劃、園區(qū)規(guī)劃、產(chǎn)業(yè)招商、產(chǎn)業(yè)圖譜、智慧招商系統(tǒng)、IPO募投可研、IPO業(yè)務(wù)與技術(shù)撰寫、專精特新小巨人申報、十五五規(guī)劃等解決方案。

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