2023年中國掩膜版行業(yè)技術發(fā)展現狀及趨勢分析 無掩膜版光刻技術成為新興發(fā)展方向【組圖】

行業(yè)主要上市公司：清溢光電(688138);路維光電(688401);中芯國際(688981);華宏半導體(01347)等

本文核心數據：中國掩膜版行業(yè)生產工藝流程圖;中國掩膜版行業(yè)關鍵技術分析;中國掩膜版行業(yè)上市企業(yè)科研投入力度

掩膜版生產工藝流程圖

掩膜版的生產有14道工藝，有圖形設計、圖形轉換、圖形光刻、顯影、蝕刻、脫膜等環(huán)節(jié)。具體生產工藝流程圖如下：

掩膜版關鍵技術分析

從掩膜版關鍵技術布局來看，主要包括光刻技術、顯影蝕刻技術、防微震技術以及光阻涂布。其中光刻是掩膜版制造的重要環(huán)節(jié)，主要的技術分為激光直寫法和電子束直寫法。

國內掩膜版技術投入有所加強

從我國掩膜版相關上市企業(yè)的科研投入情況來看，在研發(fā)投入力度上，華潤微的研發(fā)投入金額數量較大，2020年來保持在5億元以上，主要系企業(yè)產品布局較多，除掩膜版外，在傳感器、集成電路等產品布局廣泛，研發(fā)投入項目較多，金額較大。整體來看，我國掩膜版行業(yè)上市企業(yè)的研發(fā)投入力度保持增長態(tài)勢。從研發(fā)投入強度來看，掩膜版行業(yè)上市企業(yè)的研發(fā)投入強度保持在4%以上，除路維光電逐年下降外，行業(yè)整體研發(fā)投入強度呈上升趨勢，一定程度反映行業(yè)內企業(yè)對科研投入的重視程度有所提高。

注：路維光電未披露2018年數據，下同。

掩膜版新興技術布局

從我國掩膜版技術發(fā)展趨勢來看，無掩膜版光刻技術是降低光掩模不斷飛升的一個潛在解決方案，是一種有前途的候選光刻技術。但其還處于一個發(fā)展早期的階段，有待解決的技術問題還很多。近期內可能只是一個細分的光刻技術，不能替代主流的DUV和EUV光刻技術，但其較低的成本將使其在未來繼續(xù)受到關注。

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