2023年中國(guó)掩膜版行業(yè)技術(shù)發(fā)展現(xiàn)狀及趨勢(shì)分析 無(wú)掩膜版光刻技術(shù)成為新興發(fā)展方向【組圖】
行業(yè)主要上市公司:清溢光電(688138);路維光電(688401);中芯國(guó)際(688981);華宏半導(dǎo)體(01347)等
本文核心數(shù)據(jù):中國(guó)掩膜版行業(yè)生產(chǎn)工藝流程圖;中國(guó)掩膜版行業(yè)關(guān)鍵技術(shù)分析;中國(guó)掩膜版行業(yè)上市企業(yè)科研投入力度
掩膜版生產(chǎn)工藝流程圖
掩膜版的生產(chǎn)有14道工藝,有圖形設(shè)計(jì)、圖形轉(zhuǎn)換、圖形光刻、顯影、蝕刻、脫膜等環(huán)節(jié)。具體生產(chǎn)工藝流程圖如下:
掩膜版關(guān)鍵技術(shù)分析
從掩膜版關(guān)鍵技術(shù)布局來(lái)看,主要包括光刻技術(shù)、顯影蝕刻技術(shù)、防微震技術(shù)以及光阻涂布。其中光刻是掩膜版制造的重要環(huán)節(jié),主要的技術(shù)分為激光直寫法和電子束直寫法。
國(guó)內(nèi)掩膜版技術(shù)投入有所加強(qiáng)
從我國(guó)掩膜版相關(guān)上市企業(yè)的科研投入情況來(lái)看,在研發(fā)投入力度上,華潤(rùn)微的研發(fā)投入金額數(shù)量較大,2020年來(lái)保持在5億元以上,主要系企業(yè)產(chǎn)品布局較多,除掩膜版外,在傳感器、集成電路等產(chǎn)品布局廣泛,研發(fā)投入項(xiàng)目較多,金額較大。整體來(lái)看,我國(guó)掩膜版行業(yè)上市企業(yè)的研發(fā)投入力度保持增長(zhǎng)態(tài)勢(shì)。從研發(fā)投入強(qiáng)度來(lái)看,掩膜版行業(yè)上市企業(yè)的研發(fā)投入強(qiáng)度保持在4%以上,除路維光電逐年下降外,行業(yè)整體研發(fā)投入強(qiáng)度呈上升趨勢(shì),一定程度反映行業(yè)內(nèi)企業(yè)對(duì)科研投入的重視程度有所提高。
注:路維光電未披露2018年數(shù)據(jù),下同。
掩膜版新興技術(shù)布局
從我國(guó)掩膜版技術(shù)發(fā)展趨勢(shì)來(lái)看,無(wú)掩膜版光刻技術(shù)是降低光掩模不斷飛升的一個(gè)潛在解決方案,是一種有前途的候選光刻技術(shù)。但其還處于一個(gè)發(fā)展早期的階段,有待解決的技術(shù)問(wèn)題還很多。近期內(nèi)可能只是一個(gè)細(xì)分的光刻技術(shù),不能替代主流的DUV和EUV光刻技術(shù),但其較低的成本將使其在未來(lái)繼續(xù)受到關(guān)注。
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