半導(dǎo)體芯片的國產(chǎn)替代空間有多大?一文理清產(chǎn)業(yè)鏈
圖源:攝圖網(wǎng)
作者|醬紫葡萄 來源|華紫研究(ID:gh_e5953ee3ce71)
10月7日,美商務(wù)部出臺了一項臨時最終規(guī)則,從多個方面升級了對中國半導(dǎo)體等領(lǐng)域出口管制并調(diào)整出口管制“未經(jīng)驗證清單“。該規(guī)則再一次將中國的芯片行業(yè)推上了風(fēng)口浪尖。
近年來我國不斷受到以美國為首的發(fā)達(dá)國家對芯片的鉗制,推進(jìn)自主可控、高端制造、解決卡脖子問題已經(jīng)成為我國芯片行業(yè)泰山之重的歷史任務(wù),在此基礎(chǔ)之上,國產(chǎn)替代的邏輯愈發(fā)突出。
本文將對我國芯片產(chǎn)業(yè)鏈進(jìn)行詳細(xì)梳理,探尋各環(huán)節(jié)國產(chǎn)替代空間的同時挖掘投資價值(全文數(shù)據(jù)來源于國際半導(dǎo)體協(xié)會,Wind,各公司公告、財報以及招股說明書等)。
本文結(jié)構(gòu)如下圖所示:
芯片制造產(chǎn)業(yè)鏈
芯片制造產(chǎn)業(yè)鏈主要包括IC設(shè)計、晶圓的制造和加工以及封測環(huán)節(jié)。不同環(huán)節(jié)所對應(yīng)的要求不同:
上游作為知識密集型行業(yè),對高端人才的需求極大;
中游的晶圓制造和加工作為重資產(chǎn)行業(yè),不僅投入大,技術(shù)的門檻也極高,其中光刻、刻蝕等關(guān)鍵設(shè)備當(dāng)前仍被少數(shù)國際巨頭壟斷。除此之外,硅片、光刻膠等芯片制造的基石材料面臨著同樣的問題。
下游芯片的封測環(huán)節(jié),技術(shù)門檻低,同時由于我國起步早,當(dāng)前我國在該環(huán)節(jié)已經(jīng)具備明顯優(yōu)勢。
可以說國內(nèi)芯片行業(yè)最薄弱的環(huán)節(jié)即為材料和設(shè)備,兩者作為芯片產(chǎn)業(yè)鏈的上游,是半導(dǎo)體制造的支柱產(chǎn)業(yè)。
芯片制造材料
材料方面,整個芯片的制造主要涉及硅片、電子特氣、光掩膜、光刻膠配套試劑、濕法化學(xué)品、拋光材料、光刻膠以及靶材等材料。根據(jù)國際半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)協(xié)會(SEMI)的數(shù)據(jù),硅片是芯片制作的最關(guān)鍵原材料,在晶圓制造材料市場的占比高達(dá)35%;其次為電子特氣和光掩膜,占比分別為13%和12%。光刻膠配套試劑、濕法化學(xué)品、拋光材料、光刻膠以及靶材則分別占比8%、7%、6%、6%和2%。
(一)硅片
國際半導(dǎo)體協(xié)會(SEMI)的數(shù)據(jù)顯示,我國半導(dǎo)體硅片市場銷售額從2016年的5億美元增長至2021年16.56億美元,年均復(fù)合增長率高達(dá)27.06%,遠(yuǎn)高于同時期全球半導(dǎo)體硅片銷售增速的14.20%,表現(xiàn)出極大的潛力。假設(shè)以25%的增速保持增長,預(yù)計到2025年我國半導(dǎo)體硅片市場規(guī)模將達(dá)到40.43億美金。
然而,當(dāng)前全球半導(dǎo)體硅片市場呈現(xiàn)出明顯的寡頭壟斷格局。2020年數(shù)據(jù)顯示,信越化學(xué)、SUMCO、環(huán)球晶圓、Siltronic、SK Siltron五大巨頭分別占據(jù)全球半導(dǎo)體硅片市場份額的27.53%、21.51%、14.80%、11.46%和11.31%,共計占據(jù)了全球市場86.61%的份額,集中度極高。
對比之下,我國最大、最先進(jìn)的硅片制造商滬硅產(chǎn)業(yè)(688126.SH)市占率僅為2.7%,這是因為半導(dǎo)體硅片行業(yè)的準(zhǔn)入門檻極高,不僅有著極高的資金以及設(shè)備壁壘,更重要的是對技術(shù)的要求極為苛刻。半導(dǎo)體硅片要求純度需要達(dá)到99.999999999%(11N)遠(yuǎn)高于光伏的99.9999%(6N),同時硅片的平整度、光滑度、翹曲度、彎曲度以及表面顆粒等技術(shù)指標(biāo)都有著及其苛的要求。
以全球最主流的12英寸硅片為例,國內(nèi)目前能大規(guī)模量產(chǎn)的公司寥寥無幾,主要以滬硅產(chǎn)業(yè)、中環(huán)股份和立昂微為代表。截至2021年底,三家公司12英寸硅片產(chǎn)能分別為30萬片/月、17萬片/月和15萬片/月。另外,從制成來看,當(dāng)前國內(nèi)主要以14nm和28nm為主,而目前全球最先進(jìn)的芯片工藝已經(jīng)達(dá)到了5nm。技術(shù)的“代溝”使得當(dāng)前我國12英寸半導(dǎo)體硅片國產(chǎn)化率還不足1%,8英寸半導(dǎo)體硅片也小于10%。先進(jìn)制成意味著高精尖,這也是為何國產(chǎn)替代如此緊迫的根本原因。
滬硅產(chǎn)業(yè)(688126.SH)
滬硅產(chǎn)業(yè)是我國大陸地區(qū)規(guī)模最大和技術(shù)最先進(jìn)的半導(dǎo)體硅片制造企業(yè),是國內(nèi)第一家實現(xiàn) SOI 硅片和 300mm 大硅片國產(chǎn)零突破的公司??蛻舴矫?,國內(nèi)實現(xiàn)所有主要芯片制造企業(yè)全覆蓋,包括中芯國際、華潤微電子、華力微電子、武漢新芯以及長江存儲等。國際主要客戶包括臺積電、聯(lián)電、格羅方德、意法半導(dǎo)體、恩智浦等國際晶圓制造大廠。作為國內(nèi)硅片技術(shù)最好的企業(yè),公司產(chǎn)能利用率始終維持高位,隨著新增產(chǎn)能的持續(xù)釋放以及上量速度的不斷提升,公司盈利維持高速增長。2021 年實現(xiàn)營業(yè)總收入 24.67 億元,同比增長 36.19%,凈利潤為 1.45億元,同比增長 66.58%。
立昂微(605358.SH)
立昂微是國內(nèi)重?fù)焦杵堫^,主營業(yè)務(wù)包括半導(dǎo)體硅片、半導(dǎo)體功率器件以及化合物半導(dǎo)體射頻芯片的生產(chǎn)和銷售(硅片營收占比57.69%,2021年數(shù)據(jù))。
公司目前已經(jīng)成為部分頭部優(yōu)質(zhì)公司的穩(wěn)定供應(yīng)商包括ONSEMI、AOS、東芝公司、臺灣半導(dǎo)體、臺灣漢磊等國際知名跨國公司,以及中芯國際、華虹宏力、華潤微電子、士蘭微等國內(nèi)知名公司在內(nèi)的穩(wěn)定客戶群。受益于半導(dǎo)體行業(yè)景氣度的提升,公司產(chǎn)能釋放的同時,成本管控持續(xù)優(yōu)化,盈利水平持續(xù)提高。2021年立昂微實現(xiàn)營業(yè)收入 25.4 億元,同比增長 69.2%;實現(xiàn)歸母凈利潤 6.0 億元,同比增長 197.2%。
TCL中環(huán)(002129.SZ)
TCL中環(huán)也是國內(nèi)半導(dǎo)體硅片制造的領(lǐng)軍企業(yè)之一。產(chǎn)品涵蓋 4-12 英寸化腐片、拋光片、外延片。公司產(chǎn)品目前基本實現(xiàn)對國內(nèi)客戶全覆蓋,同時包括國際多家客戶。半導(dǎo)體硅片業(yè)務(wù)占公司總營收比重較小,僅為4.95%,2021年營收共計20.34億元。
(二)電子特氣
芯片的制作過程中,電子特氣被運用于氧化、光刻、CVD、離子注入、刻蝕、薄膜沉積以及摻雜等多個工藝環(huán)節(jié),其關(guān)鍵程度不言而喻。
當(dāng)前全球電子氣體市場同樣呈現(xiàn)出寡頭壟斷格局,數(shù)據(jù)顯示,2020年前五大龍頭公司合計占據(jù)了整個市場91%的份額,其中美國空氣化工占比25%、法國的液空占比23%,德國的林德(2018年與美國普萊克斯合并)占比為8%,日本的大阪日酸市場份額為18%以及美國的普萊克斯占比17%。
近些年我國特種氣體市場規(guī)模持續(xù)擴(kuò)張,自2017年的175億元增長至2021年的342億元(電子特氣216億元,占比63.2%),復(fù)合年均增長率達(dá)18.24%??紤]到以芯片、物聯(lián)網(wǎng)和車聯(lián)網(wǎng)等終端大規(guī)模推廣,疊加國產(chǎn)替代的持續(xù)推進(jìn),假設(shè)以20%的增速保持增長,預(yù)計至2025年我國特種氣體市場規(guī)模將達(dá)到709.12億元,較2021年增長一倍左右,其中電氣特氣市場規(guī)模預(yù)計將達(dá)到460.93億元(65%市占率)。
中國工業(yè)氣體工業(yè)協(xié)會的報告顯示,當(dāng)前我國電子特氣的國產(chǎn)化率僅為20%左右。具體來講,光刻、刻蝕以及清洗環(huán)節(jié)的特種氣體基本全部依賴進(jìn)口,對于摻雜、沉積等環(huán)節(jié)的特種氣體也僅能滿足少部分需求。
特種氣體行業(yè)具有極高的技術(shù)壁壘,其中主要涉及氣體的純度、包裝運輸?shù)拿荛]性以及氣體的分析檢測等技術(shù)。以上每個環(huán)節(jié)環(huán)環(huán)相扣,牽一發(fā)而動全身。
以純度為例,不僅要求氣體的純度達(dá)到4.5N、5N甚至6N和7N,還要求嚴(yán)格控制粒子和金屬雜質(zhì)的含量。純度每提升一個N以及雜質(zhì)含量每降低一個數(shù)量級就意味著工藝難度的顯著提升。因此,這也是特種氣體最難的部分所在。
包裝運輸方面,從小的氣瓶到大的槽罐都有明確的要求。在以上各方面,我國國內(nèi)廠商較國際巨頭有明顯的差距。除此之外,電子特氣行業(yè)還具有很高的認(rèn)證壁壘。通常來講,一般需要客戶審廠以及產(chǎn)品論證兩輪審核通過才會被客戶接納,時間一般為兩至三年。整體來講,目前我國國內(nèi)廠商已經(jīng)可以完成中低端產(chǎn)品的生產(chǎn),但對于純度等技術(shù)要求更高的氣體方面,未來國產(chǎn)替代有十足大的增長空間。
華特氣體(688268.SH)
華特氣體國內(nèi)特種氣體技術(shù)最先進(jìn)的廠商。不僅實現(xiàn)了高純六氟乙烷等20多個產(chǎn)品的進(jìn)口替代,自主研發(fā)的Ar/F/Ne、Kr/Ne、Ar/Ne和Kr/F/Ne 四種光刻氣體已經(jīng)獲得日本GIGAPHOTON和ASML的認(rèn)證。不僅如此,公司已經(jīng)實現(xiàn)對國內(nèi)8英寸以上集成電路制造商超過八成以上的覆蓋率,國內(nèi)客戶包括中芯國際、華虹宏力、長江存儲、華潤微電以及臺積電(中國)等。同時公司已經(jīng)進(jìn)入英特爾、美光科技、德州儀器、臺積電、SK海力士以及英飛凌等全球半導(dǎo)體企業(yè)的供應(yīng)鏈。
從產(chǎn)品制成來看,華特氣體部分產(chǎn)品已經(jīng)可以批量供應(yīng)14nm以及7nm等產(chǎn)線,部分氟碳類產(chǎn)品已經(jīng)開始進(jìn)入5nm的工藝的使用。在國內(nèi)特種方面,公司具有突出的技術(shù)以及先發(fā)優(yōu)勢。2021 年,公司實現(xiàn)營業(yè)收入 13.47 億元,同比增長 34.78%;實現(xiàn)歸母凈利潤 1.29 億元,同比增長 21.46%。未來隨著國產(chǎn)替代的進(jìn)一步加強,疊加公司的技術(shù)壁壘優(yōu)勢,公司盈利能力有望進(jìn)一步大幅提高。
(三)光掩膜
光掩膜是芯片制造流程中光刻工藝所使用的圖形母版,由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜圖形,并通過曝光的形式將圖形轉(zhuǎn)印到產(chǎn)品基板上。簡單來講是圖形設(shè)計和工藝技術(shù)等知識產(chǎn)權(quán)信息的載體。
根據(jù)SEMI的數(shù)據(jù),全球半導(dǎo)體掩膜版市場規(guī)模從2017年的37.5億美金,增長至2021年的46.5億美金,年復(fù)合增速為7.43%,整體增速表現(xiàn)慢于其他半導(dǎo)體材料。一個主要的原因是半導(dǎo)體掩膜版市場由兩大模式組成,晶圓廠/IDM廠自行配套生產(chǎn)和第三方光掩膜廠商購買。SEMI數(shù)據(jù)顯示,全球半導(dǎo)體光掩膜市場中,晶圓廠/IDM廠占比高達(dá)65%,第三方光掩膜廠商占比為35%。
由于掩膜版涉及晶圓代工廠技術(shù)機密,一般45nm以上的成熟制成才考慮向第三方獨立掩膜版廠商購買。特別是近些年45nm及以下等先進(jìn)制成市場占比大幅提升,從2017年的13%,增長至2018年的31%,因此導(dǎo)致了行業(yè)增速相對較慢。第三方光掩膜廠商中,Toppan/Photronics/DNP/中國臺灣光罩/HOYA就合計占比高達(dá)33%,可以說壟斷了整個第三方掩膜版市場。同時,在全球市場規(guī)模數(shù)據(jù)的基礎(chǔ)上,可以算得第三方掩膜版市場規(guī)模大約在16.275億美金左右。
國內(nèi)市場中,晶圓廠/IDM廠不僅擁有更大光掩膜生產(chǎn)規(guī)模,同時也具備國內(nèi)最先進(jìn)的技術(shù)。具體來講,中芯國際可以生產(chǎn)350納米至14納米各技術(shù)節(jié)點的光掩膜多種光掩膜產(chǎn)品,例如二元掩膜和相移掩膜等。華潤微產(chǎn)線已經(jīng)擴(kuò)展至12英寸,在180納米及以上市占率超過三成。當(dāng)前公司正積極開展高端光掩膜的研發(fā),計劃投資12億元提高公司光掩膜工藝制成至40nm,且每月3000片以上,產(chǎn)品規(guī)格上涵蓋6英寸至12英寸的產(chǎn)品需求。
獨立廠商方面,目前國內(nèi)相關(guān)公司技術(shù)水平主要仍只能滿足100nm節(jié)點以上的需求,這是與國際廠商以及國內(nèi)晶圓制造商的根本劣勢所在。市場占有率方面,Toppan/Photronics/DNP/中國臺灣光罩/HOYA五家公司就占據(jù)了82.9%的份額。整體來看,半導(dǎo)體光掩膜環(huán)節(jié)對外依存度非常大。
路維光電(688401.SH)
路維光電是國內(nèi)掩膜版的領(lǐng)軍企業(yè),是國內(nèi)唯一一家可覆蓋G2.5-G11全世代產(chǎn)線的廠商。市場競爭力方面,路維光電已經(jīng)實現(xiàn)250nm制成節(jié)點半導(dǎo)體掩膜版量產(chǎn),可以滿足先進(jìn)半導(dǎo)體芯片封裝、半導(dǎo)體器件等產(chǎn)品應(yīng)用。不僅如此,更先進(jìn)制成方面,路維光電已經(jīng)掌握了180nm/150nm節(jié)點半導(dǎo)體掩膜版制造核心技術(shù)的積累。
公司國內(nèi)客戶包括士蘭微、晶方科技、華天科技以及通富微電等國內(nèi)領(lǐng)先芯片公司。2021年,路維光電營收4.94億元,同比增長22.88%;凈利潤2849.54萬元,同比增長873.43%;歸母凈利潤5230.64萬元,同比增長61.14%。
清溢光電(688138.SH)
清溢光電主要從事掩膜版的研發(fā)、設(shè)計、生產(chǎn)和銷售業(yè)務(wù),是國內(nèi)成立最早、規(guī)模最大的掩膜版生產(chǎn)企業(yè)之一。清溢光電目前已實現(xiàn)250nm工藝節(jié)點的6 英寸和8 英寸半導(dǎo)體芯片用掩膜版的量產(chǎn),正在推進(jìn)180nm 半導(dǎo)體芯片用掩膜版的客戶測試認(rèn)證。
除此之外,正在開展130nm-65nm半導(dǎo)體芯片用掩膜版的工藝研發(fā)和28nm 半導(dǎo)體芯片所需的掩膜版工藝開發(fā)規(guī)劃。在半導(dǎo)體芯片領(lǐng)域,公司已開發(fā)中芯國際、英特爾、艾克爾、頎邦科技、長電科技、士蘭微等客戶。2021年,公司實現(xiàn)營業(yè)收入5.44億元,同比增長11.64%,凈利潤4452.58萬元,同比下降41.64%。
(四)光刻膠
光刻膠是利用光化學(xué)反應(yīng),通過曝光、顯影等技術(shù),使所需要的微細(xì)圖形從掩膜版轉(zhuǎn)移至待加工基片上的轉(zhuǎn)移介質(zhì)。按曝光波長劃分,半導(dǎo)體光刻膠可以分為g線(436nm)、i線(365nm)、KrF(248nm)、ArF(193nm)和EUV光刻膠五類。
KrF(248nm)、ArF(193nm)和EUV光刻膠屬于高端制成。這意味著更高的極限分辨率和更好的性能。TECHCET數(shù)據(jù)顯示,2021年ArFi(濕法)和ArF(干法)光刻膠市占率合計為48.1%,是需求最大的光刻膠產(chǎn)品,KrF(248nm)市占率為34.7%,g線和i線市場份額合計為14.7%。
國產(chǎn)化率方面,半導(dǎo)體用g/i線膠自給率約10%,KrF膠自給率不足5%,ArF膠基本完全依靠進(jìn)口。
近年來半導(dǎo)體光刻膠市場快速增長,根據(jù)SEMI的數(shù)據(jù),2015年至2021年全球半導(dǎo)體光刻膠市場規(guī)模年復(fù)合增速為12.03%,2021年增長至24.71億美金。與此同時,隨著半導(dǎo)體應(yīng)用場景的不斷開拓,半導(dǎo)體光刻膠占整體光刻膠市場的占比也在快速提升,從2019年21.9%提高至2021年的26.58%。中國市場方面,2021年規(guī)模達(dá)到了4.93億美金,同比增速高達(dá)43.69%,遠(yuǎn)高于全球同期增速表現(xiàn)。
更重要的是,我國半導(dǎo)體光刻膠市場全球的比重也實現(xiàn)了大幅提升,從2015年的10.4%提高至2021年的20%左右,幾乎實現(xiàn)了翻番。從這趨勢來看,國內(nèi)廠商不僅受益于半導(dǎo)體光刻膠的國產(chǎn)替代,同時也正在受益于我國半導(dǎo)體光刻膠市場規(guī)模的不斷擴(kuò)容。
目前全球光刻膠市場集中度高,主要被日本以及美國廠商所壟斷。前六家公司分別為JSR、東京應(yīng)化、杜邦、信越化學(xué)、住友化學(xué)和富士,市場份額分別為21%、19%、15%、13%、10%和9%,合計占據(jù)了全球總市場份額的87%。日本在全球電子特氣領(lǐng)域基本呈現(xiàn)出完全壟斷的地位,除杜邦外,其余五家公司全球市場份額合計占比高達(dá)72%。
光刻膠工藝技術(shù)難度大,擁有極高的準(zhǔn)入門檻,主要表現(xiàn)在技術(shù)、客戶認(rèn)證、設(shè)備和材料四個方面。技術(shù)方面,對分辨率、對比度、敏感度、粘滯性、粘附性、抗蝕性、表面張力、存儲 和傳送等參數(shù)都有明確要求,以上所有因素的匯集決定了光刻機的質(zhì)量以及性能。其次,客戶的認(rèn)證是一個很長的過程,一般在6個月至24月左右。
期間,不僅需要對產(chǎn)品質(zhì)量進(jìn)行PRS(光刻膠性能測試)、STR(小試)、MSTR(批量驗證)及 Release(通過驗證)等一系列測試;同時還需對廠商的資質(zhì)、產(chǎn)線等多方面進(jìn)行驗證。鑒于較長的認(rèn)證周期,時間成本太大,下游晶圓制造商通常不太愿意轉(zhuǎn)換供應(yīng)商。
此外,當(dāng)前一個非常重要的制約因素即為設(shè)備上的壁壘。光刻膠廠商需要光刻機以進(jìn)行送樣前的產(chǎn)品配方測試。光刻機價格昂貴,ASML下一代EUV光刻機單價預(yù)計在3億多美元,約合20億元人民幣左右。對國內(nèi)來說,目前資金不是一個問題,主要的是歐美為主發(fā)達(dá)國家對我國光刻機的供貨限制。除此之外,光刻膠原材料方面也存在著明顯的壁壘。目前光刻膠原材料市場同樣被以日美為首的國際廠商壟斷,其中感光劑以及樹脂國產(chǎn)化率極低。這意味著國內(nèi)光刻膠行業(yè)也存在著原材料供應(yīng)的風(fēng)險。
晶瑞電材(300655.SZ)
晶瑞電材是國內(nèi)光刻膠的領(lǐng)軍企業(yè),由其子公司蘇州瑞紅生產(chǎn)。蘇州瑞紅擁有g(shù) 線系列、i 線光刻膠系列、KrF 光刻膠系列、負(fù)型光刻膠系列以及寬譜正膠系列等多個產(chǎn)品。其中,I線光刻膠已向中芯國際、合肥長鑫等國內(nèi)知名大尺寸半導(dǎo)體廠商供貨。高端KrF光刻膠(248nm深紫色)已完成中試,分辨率達(dá)到 0.25~0.13m 的技術(shù)要求,進(jìn)入客戶測試階段,預(yù)計2022年量產(chǎn)。2021年晶瑞電材總營收18.32億,同比增長79.21%;扣非凈利潤1.15億,同比增長159.59%。其中,光刻膠及配套材料營業(yè)收入為2.74億元,較2020年增加了0.95億元,同比增漲53.04%。
彤程新材(603650.SH)
彤程新材是全球領(lǐng)先的新材料供應(yīng)商,公司通過北京科華、北旭電子發(fā)力高端光刻膠,同時已經(jīng)實現(xiàn)從上游電子酚醛樹脂到成品光刻膠的完整布局。子公司北京科華位列全球光刻膠企業(yè)八強,已實現(xiàn)批量供應(yīng) KrF 光刻膠。2021 年彤程新材半導(dǎo)體光刻膠業(yè)務(wù)實現(xiàn)營業(yè)收入 1.15 億元元,同比增長 28.80%;公司半導(dǎo)體用 G/I 線光刻膠產(chǎn)品實現(xiàn)同比增長 50.22%;KrF 光刻膠產(chǎn)品同比增長 265.80%。
客戶方面,公司I 線光刻膠和 KrF光刻膠批量供應(yīng)于中芯國際、華虹宏力、長江存儲、華力微電子、武漢新芯、華潤上華等下游晶圓至制造商。更重要的是,子公司北京科華技術(shù)雄厚,I 線光刻膠已經(jīng)接近國際一流水平,覆蓋14nm以上大部分需求。
(五)濕法化學(xué)品
濕法化學(xué)品是集成電路工藝制程中的關(guān)鍵化工原材料,涉及到芯片制造中的刻蝕、清洗、顯影以及摻雜等環(huán)節(jié)。具有技術(shù)壁壘高、資金投入巨大以及更新?lián)Q代快等特點。根據(jù)中國電子材料行業(yè)協(xié)會數(shù)據(jù),2021年我國集成電路用濕電子化學(xué)品市場規(guī)模為52.1億元,預(yù)計到2025年市場規(guī)模將增長至69.8億元。
濕電子化學(xué)品具有極高的技術(shù)準(zhǔn)入門檻,是化學(xué)試劑中對純度要求最高的試劑,對金屬雜質(zhì)、顆粒數(shù)、IC線寬都有明確的嚴(yán)苛要求。全球濕電子化學(xué)品執(zhí)行SEMI 國際標(biāo)準(zhǔn),分為G1-G5共5個等級。其中半導(dǎo)體領(lǐng)域?qū)兌鹊囊笞罡?,處于G3-G5之間。
與此同時,更大的晶圓尺寸對于純度的要求更高,12英寸晶圓需要G4-G5的等級要求。重要的是12英寸晶圓已經(jīng)成為半導(dǎo)體行業(yè)的主流,由此對于濕電子化學(xué)品的純度要求進(jìn)一步提高。我國當(dāng)前半導(dǎo)體用濕電子化學(xué)品國產(chǎn)化率非常低,整體來算大約在23%左右。如果是8英寸以上大小的半導(dǎo)體用濕電子化學(xué)品,國產(chǎn)化率則20%都不到。
行業(yè)格局來看,全球濕電子化學(xué)品主要由歐美、日本以及韓國壟斷,三者合計占比高達(dá)79%。我國企業(yè)全球市場份額僅為10%。不僅如此,我國企業(yè)技術(shù)以及產(chǎn)品主要集中在以光伏為主的低端濕電子化學(xué)品領(lǐng)域。由此,若僅考慮半導(dǎo)體用濕電子化學(xué)品領(lǐng)域,我國企業(yè)的市占率與海外龍頭相比有著更大的差距。
江化微(603078.SH)
江化微是目前國內(nèi)生產(chǎn)規(guī)模大、品種齊全、配套完善的濕電子化學(xué)品專業(yè)服務(wù)提供商。公司主要從事超凈高純試劑、光刻膠及光刻膠配套試劑等專用濕電子化學(xué)品的研發(fā)、生產(chǎn)和銷售業(yè)務(wù)。
江化微擁有104項專利,已具備G2、G3、G4等級產(chǎn)品的規(guī)?;a(chǎn)能力,在高端濕電子化學(xué)品領(lǐng)域逐步替代進(jìn)口。公司硫酸以及氨水已經(jīng)達(dá)到G5水平。主要客戶客戶包括中芯國際、士蘭微、長電科技、華潤微電子、京東方、華星光電等知名客戶。
產(chǎn)品涵蓋高效酸性剝離液、鋁鉬蝕刻液、低溫型水系正膠剝離液、低張力ITO蝕刻液、高分辨率顯影液、二氧化硅蝕刻液、鈦-鋁-鈦金屬層疊膜用蝕刻液等。2021年,江化微實現(xiàn)營收7.92億元,同比增長40.5%,實現(xiàn)歸母凈利潤0.57億元,同比下滑2.9%。其中超凈高純試劑業(yè)務(wù)實現(xiàn)營收4.93億元,較上年同期增加61.47%。江化微現(xiàn)有產(chǎn)能9萬噸/年,在國內(nèi)產(chǎn)能比較靠前,同時,江蘇鎮(zhèn)江和四川眉山還有兩個在建項目即將投產(chǎn)。
潤瑪股份(申請上市中)
潤瑪股份(江陰潤瑪電子材料股份有限公司)是國內(nèi)知名的濕電子化學(xué)品專業(yè)生產(chǎn)商。主要面向大規(guī)模集成電路和高世代顯示面板領(lǐng)域客戶,提供以高性能蝕刻液、光刻膠剝離及清洗等配套試劑為核心的濕電子化學(xué)品。
2022年10 月 27 日,潤瑪股份發(fā)布首次公開發(fā)行股票并在創(chuàng)業(yè)板上市招股說明書(申報稿)。公司是國內(nèi)少數(shù)幾家具備G4至G5級濕電子化學(xué)品成熟生產(chǎn)能力的企業(yè),滿足8-12英寸晶圓制造、TFT-LCDG8.5及以上高世代顯示面板制造和OLED柔性顯示面板制造需求。
中巨芯(已經(jīng)過會)
中巨芯產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于集成電路、顯示面板以及光伏等領(lǐng)域的清洗、刻蝕、成膜等制造工藝環(huán)節(jié),主要客戶包括中芯國際、海力士等知名公司。
公司電子濕化學(xué)品技術(shù)實力雄厚,主要產(chǎn)品電子級氫氟酸、電子級硝酸、電子級硫酸均已達(dá)到更高的 G5 水平,電子級鹽酸、電子級氟化銨、電子級氨水等產(chǎn)品也達(dá)到 G4 水平。
公司2021年營業(yè)收入為5.66 億元,同比增長41.38%,其中電子濕化學(xué)品收入占主營業(yè)務(wù)收入的83.18%。2022年6月30日,中巨芯成功過會。
(六)CMP拋光材料
CMP即化學(xué)機械拋光,是晶圓表面平坦化的關(guān)鍵步驟,可以有效解決表面粗糙度以及缺陷的問題,為下一步的光刻工藝做好鋪墊。拋光液和拋光墊是CMP工藝的核心材料,占比分別達(dá)到了49%和33%。
值得注意的是,每一片晶圓的生產(chǎn)過程需要經(jīng)歷多次的CMP拋光步驟。特別是隨著工藝制成的持續(xù)縮小,相對應(yīng)的芯片對于平坦化的要求進(jìn)一步提高,CMP步驟也隨之增加,這使得對于CMP材料的需求量也大幅增長。近年來我國CMP 拋光墊和拋光液市場持續(xù)增長。SEMI數(shù)據(jù)顯示2020年我國拋光墊市場規(guī)模為 11.6 億元,同比增長 6.42%;拋光液市場規(guī)模為 19.8 億元,同比增長 5.88%。
市場格局方面,Cabot Microelectronics 數(shù)據(jù)顯示,全球 CMP 拋光墊市場中陶氏杜邦一家獨大,市占率高達(dá)79%。Cabot和Thomas West占據(jù)第二第三的位置,市占率分別為5%和4%。全球 CMP 拋光液市場中,Cabot優(yōu)勢明顯,市場份額高達(dá)33%,日立(Hitachi)、Fujimi 分別占比 13%和10% 。我國本土廠商安集科技占比 2%,排名第 5。
安集科技(688019.SH)
安集科技是一家集研發(fā)、生產(chǎn)、銷售、服務(wù)為一體的自主創(chuàng)新型高科技微電子材料企業(yè),主營業(yè)務(wù)為關(guān)鍵半導(dǎo)體材料的研發(fā)和產(chǎn)業(yè)化。公司產(chǎn)品包括不同系列的化學(xué)機械拋光液和光刻膠去除劑,主要應(yīng)用于集成電路制造和先進(jìn)封裝領(lǐng)域。安集科技技術(shù)水平一流,CMP拋光液位居國內(nèi)龍頭,國產(chǎn)替代持續(xù)推進(jìn)??蛻艉w中芯國際、長江存儲、長鑫存儲、臺積電、華虹集團(tuán)、華潤微等。2021年,公司實現(xiàn)營業(yè)總收入6.87億元,同比增長62.57%;歸母凈利潤1.25億元,受對外投資公允價值變動影響,同比下降18.77%。
鼎龍股份(300054.SZ)
鼎龍股份是國內(nèi)拋光墊及打印耗材龍頭,是目前唯一實現(xiàn)拋光墊量產(chǎn)的廠商,已經(jīng)形成從成熟制程到先進(jìn)制程、從硬墊到軟墊的全面布局。2018年至2021年前三季度,拋光墊收入由百萬級增至1.93億元,同一時間,毛利率也隨之由16.06%大幅增至59.30%。除拋光墊產(chǎn)品外,公司還布局了拋光液、CMP 后清洗液、鉆石碟等產(chǎn)品。隨著國產(chǎn)化的持續(xù)推進(jìn)以及新業(yè)務(wù)的持續(xù)放量,公司業(yè)績增長空間大。公司主要客戶包括長江存儲、長鑫存儲、中芯國際等國內(nèi)主流晶圓制造商。2021 年鼎龍股份實現(xiàn)營業(yè)收入 23.55 億元,同比增長 29.67%;實現(xiàn)歸母凈利潤2.13 億元,同比增長 233.60%。
(七)靶材
鍍膜靶材是通過磁控濺射、多弧離子鍍或其他類型的鍍膜系統(tǒng)在適當(dāng)工藝條件下濺射在基板上形成各種功能薄膜的濺射源。簡單說的話,靶材就是高速荷能粒子轟擊的目標(biāo)材料。根據(jù)QYR數(shù)據(jù),2021年全球半導(dǎo)體靶材市場規(guī)模為16億美金,預(yù)計2028年將達(dá)到24億美金,年復(fù)合增速為5.4%。
根據(jù)SEMI的預(yù)測,2021年至2026年,我國半導(dǎo)體靶材市場將維持高速增長態(tài)勢,增速保持在10%-15%左右,預(yù)計到2026年我國半導(dǎo)體用靶材市場規(guī)模將達(dá)到 33 億元,較2020年市場規(guī)模翻一番。
全球半導(dǎo)體靶材市場同樣呈現(xiàn)出寡頭壟斷的格局。美國的霍尼韋爾和普萊克斯、日本的日礦金屬和東曹四家公司合計占據(jù)了全球80%的市場份額。然而在超高純?yōu)R射靶材市場領(lǐng)域,國內(nèi)廠商江豐電子在國際上也具有極強的競爭力。根據(jù) CMC 數(shù)據(jù),全球超高純?yōu)R射靶材市場中,江豐電子市占率排名第二,為 13%左右。
江豐電子(300666.SZ)
江豐電子是國內(nèi)靶材市場的絕對龍頭。公司的超高純金屬濺射靶材產(chǎn)品在16nm技術(shù)節(jié)點實現(xiàn)批量供貨,成功打破美、日壟斷,公司相關(guān)產(chǎn)品已經(jīng)成功突破半導(dǎo)體7nm技術(shù)節(jié)點用Al、Ti、Ta、Cu系列靶材核心技術(shù)并實現(xiàn)量產(chǎn)應(yīng)用。與此同時,公司半導(dǎo)體靶材已經(jīng)成功打入5nm制程,已成為臺積電、SK海力士、中芯國際等全球知名半導(dǎo)體廠商的供應(yīng)商。2021年公司營收15.94億元,同比增加36.64%;扣非歸母凈利潤0.76億元,同比增長25.59%。
有研新材(600206.SH)
有研新材是國內(nèi)的靶材龍頭。公司主營業(yè)務(wù)分布在高端金屬靶材、先進(jìn)稀土材料、紅外光學(xué)材料、生物醫(yī)用材料等多個領(lǐng)域。公司半導(dǎo)體靶材已經(jīng)實現(xiàn)全品類覆蓋,12 英寸高端靶占比 40%以上;目前產(chǎn) 能 3.5 萬塊/年,規(guī)劃擴(kuò)至 7.3 萬塊/年,預(yù)計 25 年達(dá)產(chǎn)。受益于下游晶圓代工大幅擴(kuò)產(chǎn)和國產(chǎn)替代邏輯持續(xù)走強,公司業(yè)績長期高增長確定性強。2021年有研新材營業(yè)收入約160.59億元,同比增加23.82%;歸屬于上市公司股東的凈利潤約2.39億元,同比增加40.21%
半導(dǎo)體制造設(shè)備
半導(dǎo)體設(shè)備是芯片制造的基石,不管是晶圓的材料制造,還是在晶圓的前道制造和后道封裝測試都發(fā)揮著舉足輕重的作用。我國近年來芯片市場大幅擴(kuò)張使得對上游設(shè)備的需求也大幅增長。2021年我國半導(dǎo)體設(shè)備市場規(guī)模達(dá)到296億美金,同比實現(xiàn)58%的增長,在全球市場的份額也提高到28.9%,是全球最大的半導(dǎo)體設(shè)備市場。國內(nèi)半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)正在享受蛋糕被持續(xù)做大的高速發(fā)展紅利。
數(shù)據(jù)顯示,2021年我國半導(dǎo)體設(shè)備廠商營收在全球市場占比僅為2.5%。以美日為主的設(shè)備廠商占據(jù)了全球大部分的份額。VLSI Research數(shù)據(jù)顯示,2021年全球前十五的半導(dǎo)體設(shè)備廠商共計占據(jù)了91.44%的市場份額。Applid Materials (應(yīng)用材料)、ASML(阿斯麥)、Tokyo Electron和Lam Research(泛林)是全球僅四家市占率高于10%的廠商,分別為19.45%、17.52%、13.90%和13.29%。
從這里可以明顯看到我國本土企業(yè)與國際巨頭的差距。歐美的持續(xù)打壓使得國內(nèi)半導(dǎo)體設(shè)備廠商在國產(chǎn)替代趨勢下業(yè)績快速增長的邏輯持續(xù)驗證,未來增長極其巨大。
在半導(dǎo)體制造設(shè)備中,薄膜沉積、光刻以及刻蝕是市場份額占比最高的三類,分別占比21.9%、21.3%和20.4%,共計占據(jù)了全市場63.6%的份額。過程控制(包含自動化制造和控制)、清洗、涂膠顯影、CMP、快速熱處理/氧化設(shè)備、離子注入以及去膠的市占率分別為16%、4.7%、3.8%、2.6%、2.5%、2.2%和0.8%。
從下游晶圓廠看不同類別設(shè)備國產(chǎn)化率
近年來,長江存儲和華虹無錫是國內(nèi)半導(dǎo)體設(shè)備招標(biāo)最多的兩家廠商。由此,從歷年長江存儲和華虹無錫不同半導(dǎo)體設(shè)備的采購情況,便大概可知國內(nèi)半導(dǎo)體設(shè)備國產(chǎn)化率的情況。
(一)薄膜沉積設(shè)備
2017年至2022年期間,長江存儲薄膜沉積設(shè)備訂單共計806臺,其中國內(nèi)廠商共計中標(biāo)34臺;華虹無錫訂單共計97臺,國內(nèi)廠商中標(biāo)14臺。在以上數(shù)據(jù)基礎(chǔ)上,計算可得半導(dǎo)體薄膜沉積國產(chǎn)化率約為5.32%。其中可以看到,北方華創(chuàng)是獲得訂單最多的國內(nèi)廠商,共計獲得23臺,足見北方華創(chuàng)在國內(nèi)半導(dǎo)體薄膜沉積環(huán)節(jié)的絕對領(lǐng)先定位。
(二)刻蝕設(shè)備
2017年至2022年期間,長江存儲刻蝕設(shè)備訂單共計456臺,其中國內(nèi)廠商中標(biāo)102臺。華虹無錫刻蝕設(shè)備訂單共計94臺,國內(nèi)大陸廠商共計中標(biāo)20臺。計算可得,半導(dǎo)體刻蝕設(shè)備國產(chǎn)化約為22.18%。
整體來看,刻蝕設(shè)備的國產(chǎn)化率在所有半導(dǎo)體設(shè)備工藝?yán)锾幱谙鄬Ω呶?。從中?biāo)的情況來看,中微公司中標(biāo)最多,北方華創(chuàng)位居第二,分別為72臺和32臺。中微公司在半導(dǎo)體刻蝕設(shè)備領(lǐng)域處在龍頭的位置。究其原因,中微公司產(chǎn)品工藝覆蓋面相較于北方華創(chuàng)更廣。
(三)光刻設(shè)備
光刻機是我國半導(dǎo)體設(shè)備環(huán)節(jié)最薄弱的環(huán)節(jié),2021年初我國光刻機生廠商上海微電子中標(biāo)了長江存儲一臺光刻機的訂單。阿斯麥占據(jù)絕對領(lǐng)導(dǎo)地位,共計中標(biāo)長江存儲和華虹無錫62臺光刻機訂單。計算可得,目前我國半導(dǎo)體光刻機設(shè)備國產(chǎn)化率約為1.30%。
(四)過程控制設(shè)備
2017年至2022年之間,長江存儲過程控制設(shè)備訂單共計354臺,其中國內(nèi)廠商共計中標(biāo)15臺。華虹無錫過程控制設(shè)備訂單共169臺,國內(nèi)廠商共中標(biāo)8臺。計算可得,我國半導(dǎo)體過程控制設(shè)備國產(chǎn)化率約為4.38%。中科飛測和精測半導(dǎo)體處在國內(nèi)領(lǐng)先地位。
(五)清洗設(shè)備
2017年至2022年之間,長江存儲過程清洗設(shè)備訂單共計210臺,國內(nèi)廠商中標(biāo)48臺。華虹無錫過程清洗設(shè)備訂單共69臺,國內(nèi)廠商中標(biāo)48臺。計算可得,我國半導(dǎo)體清洗設(shè)備國產(chǎn)化率約為34.41%。盛美上海是中標(biāo)最多的國內(nèi)廠商,共中標(biāo)59臺,僅次于國際巨頭日本迪恩士。
(六)涂膠顯影設(shè)備
2017年至2022年之間,長江存儲涂膠顯影設(shè)訂單共計54臺,國內(nèi)本土廠商未有中標(biāo)。華虹無錫涂膠顯影設(shè)備訂單共27臺,國內(nèi)廠商未有中標(biāo)。由此,我國半導(dǎo)體涂膠顯影設(shè)備國產(chǎn)化率幾乎為零(為考慮其他廠商)??梢?,半導(dǎo)體涂膠顯影設(shè)備是國內(nèi)除了光刻機之外另一大設(shè)備短板所在。
(七)CMP設(shè)備
2017年至2022年之間,長江存儲CMP設(shè)備訂單共計172臺,其中國內(nèi)廠商中標(biāo)34臺。華虹無錫CMP設(shè)備訂單共38臺,國內(nèi)廠商中標(biāo)共計臺19臺。計算可得,我國半導(dǎo)體CMP設(shè)備國產(chǎn)化率約為25.24%。華海清科共計中標(biāo)了47臺,是CMP設(shè)備領(lǐng)域的龍頭企業(yè)。
(八)快速熱處理/氧化設(shè)備
2017年至2022年之間,長江存儲快速熱處理/氧化設(shè)備訂單共計283臺,其中國內(nèi)廠商中標(biāo)110臺。華虹無錫速熱處理/氧化設(shè)備訂單共147臺,國內(nèi)廠商中標(biāo)共計臺19臺。計算可得,我國半導(dǎo)體CMP設(shè)備國產(chǎn)化率約為30%。北方華創(chuàng)是快速熱處理/氧化設(shè)備領(lǐng)域絕對龍頭,共計中標(biāo)了111臺設(shè)備。
(九)離子注入設(shè)備
2017年至2022年之間,長江存儲離子注入設(shè)備訂單共計54臺,其中國內(nèi)廠商未有中標(biāo)。華虹無錫離子注入設(shè)備訂單共63臺,國內(nèi)廠商中標(biāo)共計臺2臺。計算可得,我國半導(dǎo)體離子注入設(shè)備國產(chǎn)化率約為1.71%。爍科中科信是唯一中標(biāo)的國內(nèi)本土企業(yè)。
(十)去膠設(shè)備
2017年至2022年之間,長江存儲去膠設(shè)備訂單共計86臺,其中國內(nèi)廠商中標(biāo)74臺。華虹無錫去膠設(shè)訂單共50臺,國內(nèi)廠商中標(biāo)共計臺30臺。計算可得,我國半導(dǎo)體CMP設(shè)備國產(chǎn)化率約為76.47%。屹唐股份在去膠設(shè)備領(lǐng)域處于絕對領(lǐng)先的位置。國內(nèi)中標(biāo)的104臺設(shè)備中95臺來自屹唐股份。
從以上設(shè)備采購的名單中,國內(nèi)四家公司處在明顯的優(yōu)勢地位。中國國際招標(biāo)網(wǎng)數(shù)據(jù)顯示,以長江存儲設(shè)備訂單為例,2017年至2021年期間,北方華創(chuàng)共計中標(biāo)56次,獲得143臺設(shè)備訂單;屹唐股份排在第二,共計中標(biāo)48次,獲得102臺設(shè)備訂單;中微公司排在第三,共計中標(biāo)37次,獲得59臺設(shè)備訂單;盛美上海排在第四,共計中標(biāo)29次,獲得35臺設(shè)備訂單。
國產(chǎn)設(shè)備龍頭
實際上,盡管我國半導(dǎo)體設(shè)備國產(chǎn)化率仍很低,但近些年已經(jīng)涌現(xiàn)出一批實力強勁本土廠家,以上四家公司便是代表。四家公司市場份額分別為例本土廠家的前四位(2021年數(shù)據(jù):北方華創(chuàng)20.6%、中微公司8.1%、盛美上海4%、屹唐股份9.5%左右)。
北方華創(chuàng)(002371.SZ)
北方華創(chuàng)為國內(nèi)規(guī)模最大、產(chǎn)品覆蓋最廣的半導(dǎo)體設(shè)備公司,不僅在氧化擴(kuò)散/熱處理、PVD 、硅刻蝕和清洗機等有布局,公司爐管和 PVD 設(shè)備也具備較強的產(chǎn)品競爭力。2021 年,北方華創(chuàng)營業(yè)收入96.83 億元,同比增長59.9%,歸母凈利潤10.77 億元,同比增長100.66%。
中微公司(688012.SH)
中微公司是國內(nèi)刻蝕設(shè)備龍頭。目前主要產(chǎn)品包括半導(dǎo)體刻蝕設(shè)備、MOCVD設(shè)備、薄膜沉積設(shè)備(CVD)以及環(huán)保設(shè)備,擁有20余款產(chǎn)品型號。公司客戶包括臺積電、三星、華虹等國內(nèi)外一線邏輯、存儲和功率晶圓廠商。2021年,中微公司實現(xiàn)營業(yè)收入31.08億元,同比增長36.72%,凈利潤10.11億元,同比增長105.49%。
盛美上海(688082.SH)
盛美上海是國內(nèi)半導(dǎo)體清洗設(shè)備平臺型龍頭企業(yè)。主要產(chǎn)品包括半導(dǎo)體清洗設(shè)備、半導(dǎo)體電鍍設(shè)備和先進(jìn)封裝濕法設(shè)備等。公司擁有國際領(lǐng)先的單片兆聲波清洗技術(shù)、單片槽式組合清洗技術(shù)、電鍍技術(shù)、無應(yīng)力拋光技術(shù)等。2021年,盛美上海實現(xiàn)營業(yè)收入16.21億元,同比增長60.88%,歸母凈利潤為2.66億元,同比增長35.31%。
屹唐股份(申請上市中)
屹唐股份是全球半導(dǎo)體去膠、快速熱處理設(shè)備的龍頭企業(yè)。根據(jù)Gartner數(shù)據(jù),2020年全球集成電路制造干法去膠設(shè)備市場中,屹唐股份憑借31.29%的市場占有率位居全球第一??蛻舭ㄩL江存儲以及華虹集團(tuán)等國內(nèi)外晶圓制造企業(yè)??焖贌崽幚碓O(shè)備以11.5%的市場份額位居全球第二的位置。客戶包含臺積電、三星電子、中芯國際、華虹集團(tuán)、長江存儲等國內(nèi)外龍頭晶圓制造商。2020年,屹唐股份實現(xiàn)營收23.13億元,同比增長46.96%;實現(xiàn)歸母凈利潤0.25億元,同比增長128.09%。
半導(dǎo)體設(shè)備領(lǐng)域,對于不僅擁有國產(chǎn)替代屬性,同時還擁有業(yè)績增長的企業(yè)將擁有強勁基本面的支撐并獲得市場更高的估值空間。以上四家企業(yè)由于擁有更廣的設(shè)備覆蓋,也將被市場給予更高的估值。
結(jié)語
整體來看,芯片產(chǎn)業(yè)的國產(chǎn)替代、自主可控勢在必行,同時國家層面也在堅定信念,這意味著大規(guī)模、持續(xù)的政策扶持將給到半導(dǎo)體相關(guān)短板領(lǐng)域。
半導(dǎo)體材料和設(shè)備是當(dāng)前制約國內(nèi)芯片發(fā)展的最大難關(guān),兩者的國產(chǎn)替代空間也最大。同時考慮到,近些年下游晶圓廠商的大幅擴(kuò)產(chǎn),半導(dǎo)體材料以及設(shè)備相關(guān)企業(yè)將充分受益,在技術(shù)、資金等因素的疊加下,行業(yè)也將呈現(xiàn)出強者恒強的局面??傮w來說,國產(chǎn)芯片未來可期!
編者按:本文轉(zhuǎn)載自微信公眾號:華紫研究(ID:gh_e5953ee3ce71),作者:醬紫葡萄
品牌、內(nèi)容合作請點這里:尋求合作 ››
前瞻經(jīng)濟(jì)學(xué)人
專注于中國各行業(yè)市場分析、未來發(fā)展趨勢等。掃一掃立即關(guān)注。