2018年全球半導(dǎo)體光刻膠市場(chǎng)現(xiàn)狀與發(fā)展趨勢(shì)分析 ArF光刻膠仍將是主流【組圖】
半導(dǎo)體光刻膠種類繁多,已應(yīng)用產(chǎn)品主要可分為四大類
光刻膠被廣泛應(yīng)用于光電信息產(chǎn)業(yè)的微細(xì)圖形線路的加工制作,是微細(xì)加工技術(shù)的關(guān)鍵性材料。按應(yīng)用領(lǐng)域,光刻膠可以分為半導(dǎo)體光刻膠、PCB光刻膠、LCD光刻膠等。
按顯示效果,又可將光刻膠分為正性光刻膠和負(fù)性光刻膠。正性光刻膠顯影時(shí)未曝光部分溶解于液,形成的圖與掩膜版相反。負(fù)性光刻膠顯影時(shí)曝光部分溶解于液,形成的圖與掩膜版相同。由于負(fù)性光刻膠顯影時(shí)易變形和膨脹,分辨率一般只能達(dá)到2微米,所以正性光刻膠的應(yīng)用更為普及。
半導(dǎo)體光刻膠種類繁多,從目前市場(chǎng)上已實(shí)際應(yīng)用的主要半導(dǎo)體光刻膠來看,其按照曝光波長(zhǎng),可分為g線(436nm)、i線(365nm)、KrF(248nm)和ArF(193nm)等4個(gè)大類。其中,ArF光刻膠為目前分辨率最高的半導(dǎo)體光刻膠。g線和i線光刻膠為目前市場(chǎng)上使用量最大的光刻膠。
全球半導(dǎo)體光刻膠占總體的24.1%,中國(guó)半導(dǎo)體光刻膠僅占總體的1.6%
從全球產(chǎn)品市場(chǎng)來看,LCD光刻膠占比最高,為26.6%。PCB光刻膠占比位居第二,為24.5%。半導(dǎo)體光刻膠占比位居第三,為24.1%??傮w看來,半導(dǎo)體光刻膠、PCB光刻膠、LCD光刻膠三類占比較為均衡。
從中國(guó)產(chǎn)品市場(chǎng)來看,PCB光刻膠市場(chǎng)份額占比最多,高達(dá)94.4%。LCD光刻膠市場(chǎng)份額占比第二,為2.7%。半導(dǎo)體光刻膠市場(chǎng)份額占比位居第三,僅為1.6%??傮w看來,中國(guó)市場(chǎng)PCB光刻膠占據(jù)大部分市場(chǎng)份額,LCD光刻膠和半導(dǎo)體光刻膠所占份額非常低。
中國(guó)半導(dǎo)體光刻膠市場(chǎng)規(guī)模占全球比重最大,約為32%
2017年,從全球區(qū)域市場(chǎng)來看,中國(guó)半導(dǎo)體光刻膠市場(chǎng)規(guī)模占全球比重最大,達(dá)到32%。其次是美洲地區(qū),其光刻膠市場(chǎng)規(guī)模占全球比重為21%。亞太地區(qū)緊跟其后,光刻膠市場(chǎng)規(guī)模占全球比重為20%。歐洲、日本地區(qū)所占比重較低,大約均為9%。
全球半導(dǎo)體光刻膠市場(chǎng)規(guī)模將不斷擴(kuò)大,ArF光刻膠仍將是主流
2017年,全球半導(dǎo)體光刻膠銷售額達(dá)到12.05億美元的市場(chǎng)規(guī)模。從全球半導(dǎo)體光刻膠分類市場(chǎng)份額占比來看,g/i線光刻膠市場(chǎng)份額占比為24.0%,KrF光刻膠市場(chǎng)份額占比為22.0%,ArF/液浸ArF光刻膠市場(chǎng)份額占比為41.0%。
未來,隨著功率半導(dǎo)、傳感器、LED市場(chǎng)的持續(xù)擴(kuò)大,i線光刻膠市場(chǎng)將保持持續(xù)增長(zhǎng)。隨著精細(xì)化需求增加,使用i線光刻膠的應(yīng)用將被KrF光刻膠替代,KrF光刻膠市場(chǎng)需求將不斷增加。ArF光刻膠對(duì)應(yīng)IC制程節(jié)點(diǎn)最為先進(jìn),在7nm制程的EUV技術(shù)成熟之前,ArF光刻膠仍將是主流,隨著雙/多重曝光技術(shù)的使用,光刻膠的使用次數(shù)增加,ArF光刻膠的市場(chǎng)需求將加速擴(kuò)大。
以上數(shù)據(jù)來源參考前瞻產(chǎn)業(yè)研究院發(fā)布的《中國(guó)信息化學(xué)品行業(yè)產(chǎn)銷需求與投資預(yù)測(cè)分析報(bào)告》。
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